金属をるつぼで溶解し溶解した湯をノズルより回転ディスクに落し遠心力を利用して粉末を製造する装置です。

溶解温度	２５０℃ 〜 1700℃
加熱法	高周波誘導加熱
粉末粒度	２５０μm〜 1０μm

真空引後不治性ガス雰囲気中で製造する為、非常に酸化のない粉末が出来ます。
ガス消費は少ない為非常に経済的です。

銅：アルミニウム合金・各種半田・金錫・希土類・他、低融点金属から高融点金属の粉末が製造出来ます。